Spector

掩膜关键尺寸(CD)测量系统

面向先进掩膜制造的高精度光学量测平台

Spector是专为半导体掩膜制造中的关键尺?(CriticalDimension, CD)测量打造的?端光学量测系统，?持?14英?掩膜的?精度测量，全?满??65nm?艺节点的掩膜检测需求。 


系统可选配紫外光源，并对光学器件进?专?优化，确保关键尺?测量重复性优于1.5nm，满??稳定性和??致性的量测要求。


Spector 采?全封闭式设计，?持SMIF传输接?和全?动化搬运流程，满?洁净环境下的?动化?产需求。 同时，系统内置标准 SECS/GEM 通讯协议，便于?缝集成?Fab?动化系统，助?客户实现?度?动化，智能化的掩膜制造流程。


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方案优势

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    高精度量测

    低至1.5nm的量测重复性精度

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    灵活易用

    ?持SMIF，全?动搬运

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    成熟，稳定，可靠

    低COO，易维护，无短周期消耗品，长期稳定可靠

培训证书查询

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